ディスプレイ向け透明電極グラフェンの作り方
DATE: 05/26/2010 18:14:35


カーボンナノチューブ発見者の飯島教授(名城大学)が中心になって
韓国の研究グループと新しいグラフェンの作り方を開発した。

CVD化学気相堆積法の一種で、

基板に触媒能を持つ銅箔を用いて
水素とメタンガスなどを入れた石英オーブンで1000度で焼いて銅箔上に炭素の単原子層を作る。

グラフェンの作り方ホームページ
これまで鉄やニッケルが触媒能が高いと報告されているが

銅箔は曲げやすいし
銅と炭素は剥離しやすいので
銅箔からポリエチレンフィルムなどに移し替えるときに有利なのだろう。

銅箔は電解と圧延があるがどちらも表面がそれほど平滑じゃない。

けど表面にグラフェンがちゃんと平滑で大面積にできるんだねえ。

1000度いうのが銅箔の温度として高すぎだからちょっと無理があるなあ。

銅って融点が高くないから1000度で焼いたら粒子が過剰に成長してボコボコな表面になりそうだけどなあ?

鉄やニッケルはその点、高温に強いから先行してたんだよね。

1000度から低温合成がカギになるね~

低温合成にはガスを工夫か圧力を工夫か

CVDから別法に変更するかだなあ。

アルコールを含む水と基板の間に高電圧をかけると基板にグラフェンができるらしいからそれが解かも知れない。

基板から移し替えるって発送がいいんだろうね。

銅と鉄とニッケル。

どれも化学めっきや電気めっきで平滑に作れるから

また電気化学が活躍する場所が増えたね~

韓国勢に負けるなよ。

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